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AWL显微镜晶圆检查系统

兼具稳定性和安全性,能够安全可靠的传送晶圆,适合于前道到后道工程的晶圆检查。拥有AWL046、AWL068两种机型,分别可适用于4/6英寸晶圆检测,6/8英寸晶圆检测,适应范围广、搭配灵活。可自由设置的检查模式,充分符合人机工程学设计,操作舒适、简便。

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先说样品与检测目标即可,不必先确定完整配置。已有设备也可沟通适配条件。

AWL显微镜晶圆检查系统
方案资料图片方案资料图,供应用参考

方案资料

方案概览

兼具稳定性和安全性,能够安全可靠的传送晶圆,适合于前道到后道工程的晶圆检查。拥有AWL046、AWL068两种机型,分别可适用于4/6英寸晶圆检测,6/8英寸晶圆检测,适应范围广、搭配灵活。可自由设置的检查模式,充分符合人机工程学设计,操作舒适、简便。

360°宏观检查

具有宏观检查手臂,可以实现晶面宏观检查、晶背宏观检查1的360°旋转,更为容易发现伤痕和微尘。通过操作杆可随意将晶圆倾斜观察。晶面最大倾斜角度为70°,晶背1最大倾斜角度为90°,晶背2最大倾斜角度为160°,利用旋转功能、倾斜角度,完全可以目视检查整个晶圆正反面及边缘。

人机工程学设计

LCD显示屏,可为操作者提供更直观的实觉体验,可清晰的显示当前检查项目及次序,调试参数一目了然。手动快速释放真空载物台可提高操作者的舒适度和工作效率。



 
 
 
 

规格参数

应用领域 · 咨询前准备

请说明样品材质、尺寸及需要观察的特征。如果已有检测流程,也请一并说明,便于讨论适用的观察与制样条件。

相关技术 · 咨询前准备

请提供现有仪器、相机及接口信息,并说明是否需要图像记录或尺寸测量。具体配置、兼容范围与可选附件需结合型号核对。

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先确认需求,再核对仪器配置

告诉我们样品与检测项目,以及是否已有显微镜或相机,便于进一步核对适配型号与配套配置。

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应用方案

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CL-CM40BD自动清洁度颗粒污染分析设备是采用光学显微镜测定颗粒清洁度、颗粒污染度的专业仪器。高精度电动平台,自动化分析软件,高清图像扫描相机,具有自动化高、工作流程化设计模式,操作简便,采集图像快速高效,无缝拼接浏览,智能识别统计,按照选择标准生成结果及报告。针对在制造和装配过程中的颗粒污染物残留,检查电路板电子元件、检测航空航天部件、汽车零部件、食品加工设备和环境中的微生物和残留物。也适用于油品清洁度检测,润滑油清洁度颗粒检测,乳化液清洁度检测,防冻液清洁度检测颗粒检测。

沟通您的应用需求

告诉我们样品、检测项目与现有设备,进一步核对适合的型号和配置。

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从应用需求出发

不确定选哪款?先聊聊您的样品与观察需求。

告诉我们样品材质、观察或测量目的,以及是否需要拍照,便于核对适合的仪器和配置。

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